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《雄安新区数字化主动电网技术标准》发布
发布时间:2025-07-06 20:20:14  来源:东方装饰设计有限公司

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数字术标图13严格单层石墨烯的生长(a)二元Ni-Mo合金用于CVD生长石墨烯的示意图。化主(d)在液态Cu和固体Cu上生长的石墨烯的SEM图像。

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(g)部分覆盖石墨烯/Cu箔的DF-OM图像,动电中间为双层区域。网技基于CVD方法在金属基底上生长的石墨烯薄膜具有优异的可扩展性和可控性。雄安新区(b)Ni-Mo合金上生长的石墨烯的拉曼光谱。

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数字术标图14具有均匀畴尺寸的石墨烯薄膜生长(a)石墨烯晶种阵列的SEM图像。(c,d)各种关键参数,化主包括基板(Cu,Ni)、压力(APCVD,LPCVD)和碳源(气态,液态和固态)制备的石墨烯性能和成本评估。

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动电(f)部分覆盖HGFs的SEM图像。

【成果简介】近日,网技Adv.Mater.在线刊登了北京大学彭海琳教授与刘忠范院士发表的题为TowardMassProductionofCVDGrapheneFilms的综述文章,网技集中阐述了基于CVD方法的石墨烯薄膜大规模生产的研究现状与未来发展方向。而是确有其事,雄安新区上海科技大学与海外学者合作较多,所以挂名了6篇NS并不为奇。

数字术标投稿以及内容合作可加编辑微信:cailiaokefu。化主2015年获中国科学院杰出成就奖。

2008年被聘为美国加州大学洛杉矶分校(UCLA)助理教授,动电2012年和2013年分别晋升为终身副教授和教授,2013年被聘为湖南大学特聘教授。16岁上大学,网技28岁成为中科院金属研究所研究员,网技36岁被任命为中科院金属研究所所长,38岁当选中国最年轻的中科院院士,41岁成为美国《科学》杂志创刊以来第一位担任评审编辑的中国科学家。

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